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公差分析

ZEMAX 提供一套綜合的、靈活的和功能強大的公差分析功能。缺省的公差分析項目包括:曲率半徑、厚度、條紋、位置、傾斜、離軸、局部誤差、折射率、 Abbe 數等。

還可以自己定義公差,包括非球面係數、離心 / 傾斜 , solve 和參數公差等。

定義的補償器包括:焦距、傾斜、任意元件或面或群組的位置。

可以選擇公差評價標準,有均方根點半徑 , 均方根波前差 , MTF, boresight error, 或更複雜的自定義標準。

對於複雜的光學系統可以一步一步自定好每個公差的容限,然後使用如下三種工具:

敏感度( Sensitivity )分析

單獨考慮每個定義的公差。參數在公差範圍進行浮動,然後確定每個補償器的最佳值。最後將每個公差對系統的表現的影響列表輸出。

反敏感度( Inverse Sensitivity )分析

在定義系統最低性能後, inverse sensitivity 分析迭代計算每個參數的公差容限。

蒙特卡羅( Monte Carlo )分析

蒙特卡羅分析功能非常強大並非常有用,因為它同時考慮所有公差的影響。它用定義的公差產生一些隨機系統,採用適當的統計模型,調整所有的補償器,使每個參數隨機擾動,然後評估整個系統性能的影響。這個分析可以模擬出實際生產加工及裝配時所發生的情況,對於批量生產預測良率很有幫助。

變焦和多重結構

ZEMAX 支援多重結構。 ZEMAX 中的各種資料,例如波長、孔徑值、視場、曲率半徑、厚度、玻璃類型等資料,都可以作為多重結構資料的參數。這一點可以應用到變焦鏡頭分析和設計,可以設計變焦鏡頭、掃描鏡頭、多光路系統、透鏡陣列、干涉儀、分光鏡等。

ZEMAX 可以在一個系統中同時看到多個結構的輸出,全局座標可以讓我們對比各個結構的變化。

ZEMAX 可以對多重結構同時進行優化。每重結構可以是同樣的或不同的優化函數,變化和約束條件也可以是相同或不同的。通過在一個溫度範圍內同時優化,也可以用在熱分析中。

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