ZEMAX进行照明和杂散光分析
Illumination and Stray Light Analysis Using ZEMAX
主办单位：
光研科学(台灣)有限公司
國立中央大學 電腦教室
ZEMAX 进行照明和杂散光分析 ：
本课程涵盖了 ZMEAX 非成像的设计和分析，包括非连续光线的追迹、散射、分光、用户定义光源 / 物体 / 表面、 CAD 的转入 / 转出、梯度折射率材料、衍射光学和其它应用 ZEMAX 高级的非连续分析和建模的功能。
针对人士：
想要学习利用 ZEMAX 进行更多的照明系统建模和杂散光分析的光学工程师。本课程涵盖了非连续光线的追迹、光源、探测器、物体、分光、散射、鬼像分析、杂散光分析、棱镜、菲涅耳透镜、多元件透镜、梯度折射率、偏振和薄膜的建立。
简介
• 玻璃的性质和选择
• Snell 定律、折射和反射
• 全反射
• 非连续光线追迹
• 使用 ZEMAX 的三种方式
• 光源、物体和探测器
• 物体的类型和定义
• 物体位置定义的规则
• 辐射度和光度学的单位
光源
• 定义和放置光源
• DLL 定义光源
• 文件定义光源
• 辐射 SourceTM 的建模
• 幻灯片
物体
• 原始的物体
• 棱镜
• 菲涅耳和有小平面的物体
• 分光器
• 定义任意的物体
• 复杂的物体
• 嵌套的物体
• 探测器
• 作为探测器的物体
高级功能
• 偏振和薄膜
• 散射理论和建模
• 分光
• 散射方向
• 考虑物体的列表
• 镀膜和散射组
• 档案材料
• 批量散射
• 相干长度
• 衍射
• 折射率介质
• 优化
非连续光线的分析
• 分光
• 杂散光的分析
• 利用隔板较少杂散光
• 连续的鬼像分析
• 非连续的鬼像分析
• 使用幻灯片
• 干涉和干涉仪
滤波器和光线数据库
• 光线数据库
• 滤波串
• 保存光线数据
• 数据库的操作
鬼像分析
• 连续光的鬼像分析
• 非连续光的鬼像分析
• 鬼像的优化
干涉和干涉仪
• 干涉和条纹
自动数据收集
• 总览
• ZPL 宏指令
• 通用图形
照明系统实例
• 柯勒照明
• 光管
• 聚光光学
扩展分析
• 用户自定义光源
• 用户自定义梯度折射率
• 用户自定义衍射
• 用户自定义散射
• 用户自定义物体
• CAD 输入和输出
2006年光研科学培训课程
日期 |
培訓內容 |
舉辦地點 |
授課語言 |
教材來源 | 註冊參加 |
| 05月19日-05月21日 06月10日,06月18日 |
ZEMAX進行照明和雜散光分析 | 國立中央大學電腦室 | 中文 | 美國 | 我要註冊 |
| 08月18日-08月20日 09月16日,09月17日 |
ZEMAX進行光學系統設計 | 國立中央大學電腦室 | 中文 | 美國 | 我要註冊 |
| 11月17日-11月19日 12月16日,12月17日 |
ZEMAX進行高級光學設計 | 國立中央大學電腦室 | 中文 | 美國 | 我要註冊 |